利用RF能源进行工业供暖

利用RF能源进行工业供暖

与用于工业加热应用的传统热源不同，RF能量允许使用高频电磁能量的非常控制的材料加热。典型的加热溶液可以使用红外辐射或对流加热器去除水分。这些解决方案是有效的，但对于所用的功率以及它们从表面的外部干燥并缓慢热到对象材料的内部的事实而效率低。相比之下，RF能量加热整个材料。一个很好的例子是国内微波炉，用于在全世界的家庭中加热和再加热食物。

今天的许多工业供热解决方案承认这一益处并使用称为磁控管的传统微波管，以在材料中产生热量。通过调节输出功率或直接能量随着材料密度的变化来调节输出功率或直接能力的限制，磁控管是用于材料加热的蛮力装置。虽然比旧技术更高效，但缺点是磁控管的输出功率随着时间的推移而劣化，尤其是在不断运行的工业应用中，需要昂贵的维护和更换。

现在，半导体器件替换磁像磁像，诸如：

• 控制变化环境中加热的能力（密度）

• 随着时间的推移，有限或没有功率劣化

• 降低维护成本（可靠性）

• 经济的实施

可控性真正使用半导体技术的核心优势，将工业供暖产品转化为可靠和更智能的固态基于固态的系统。

作为固态RF晶体管的分销商，RFMW一直在433 MHz，915 MHz和2.45GHz频段中为客户提供各种RF能源应用，最近添加了新的，高功率，915 MHz放大器托盘来自Ampleon他们广泛选择的设备。

这bpf0910h9x600是600瓦，RF Power LDMOS托盘使用坚固的晶体管，以确保整个频段上最佳的课堂电源和效率型材，而承受最严苛的不匹配条件。托盘放大器容易组合，以产生非常高功率放大器，以更换旧的磁控管基于磁控管的设计，如干燥，加工和固化材料或等离子体产生。

BPF0910H9X600托盘放大器

RFMW的RF Power Products的供应商业务经理Tim Daniels表示，“随着固态晶体管的效率提高，我们正在看到越来越多的客户，以兴趣评估固态解决方案以更换磁控管。到目前为止，我们只有433MHz和2.45 GHz RF能源应用的托盘。来自Ampleon的600瓦，915 MHz托盘适合我们的一个重要的利基射频能量组合。“

丹尼尔斯先生说：“虽然我们提供了RF功率晶体管，所测试的，但50欧姆匹配的托盘相当加速设计周期，同时冒出风险。客户可以在几周内构建原型，并专注于其系统和过程控制软件。当将固态与磁控管进行比较时，您不需要高压电源，固态的可靠性远远高，因此您不需要更换像磁控管一样的PA。“

在核心bpf0910h9x600托盘是Ampleon第九一代，50伏LDMOS晶体管。托盘具有68％的典型效率，并经过优化，以覆盖902至928 MHz ISM频段。它适用于窄和宽带915MHz应用。嵌入式铜散热器融入托盘中以改善整体系统的热设计，内置温度传感器允许过温保护。

丹尼尔斯先生继续说“我们早些时候发现了一些客户需要更多的集成解决方案，而不是我们提供的传统离散的RF功率晶体管组件。Ampleon通过提供完全测试的托盘来解决这个问题。这有助于我们的客户在RF功率放大器设计的情况下快速建立功率放大器，而不会花费时间焊接到嵌入式铜币的难题;为生产高卷的基站客户很常见的东西，但在小批量中可能是昂贵的，也难以正确地完成。“

“每个Ampleon托盘都经过彻底测试，并包括晶体管下方空隙的X射线。虽然这是高批量生产的优秀方法，但RF能量应用仍然相对较低。收益率可以很低，直到你得到这个过程，所以在准备去的托盘中购买了很多复杂性，从设计周期开始了“丹尼尔斯先生说。“我们往往可以帮助客户在几周内完成原型和运行。”

应用支持可用

RFMW根据坚固的晶体管和托盘模块的综合组合提供完整的阵容，可确保在整个频段上最佳的级电源和效率配置文件，同时承受着最严格的不匹配条件。

固态解决方案为现有的RF供电应用启用了几种改进，同时启用了一系列新的新等离子体照明，医疗或汽车点火系统。固态RF系统易于更换磁控磁像，用于各种应用，如工业供暖和干燥，化学加工，等离子生成，商业烹饪（餐馆，快速再热和解冻），医疗和消费微波炉。

有关更多信息和应用程序支持bpf0910h9x600或其他高功率ISM频段应用，请乐动全站APP联系RFMW.。